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技術(shù)文章

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P產(chǎn)品分類RODUCT CATEGORY

半導(dǎo)體烘烤設(shè)備

等離子清洗機(jī) 檢測設(shè)備高精度恒溫?zé)岚?/a> 高低溫測試儀快速退火爐刻蝕機(jī) 馬弗爐防潮箱潔凈烘箱無氧烘箱無塵烘箱固化烤箱氮?dú)?充氮烘箱真空烤箱潔凈烤箱
HMDS烘箱

HMDS鍍膜機(jī) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) HMDS烤箱 HMDS預(yù)處理烘箱
環(huán)境檢測試驗(yàn)箱

高低溫沖擊試驗(yàn)機(jī) 高低溫試驗(yàn)箱高低溫濕熱試驗(yàn)箱恒溫恒濕試驗(yàn)箱高溫恒溫水（油）浴高溫老化房生產(chǎn)定做數(shù)顯真空干燥烘箱數(shù)顯恒溫電熱鼓風(fēng)干燥箱行業(yè)專用試驗(yàn)箱
烘箱、烤箱

無塵無氧化烤箱高溫?zé)o氧化烤箱防氧化烘箱無氧化烤箱隧道烤爐無氧烤箱高溫烘箱充氮烤箱無塵烤箱晶元烘箱充氮烘箱隧道烘箱潔凈烘箱無氧化烘箱半導(dǎo)體烘箱非標(biāo)烘烤箱百級(jí)無塵烤箱充氮潔凈烘箱精密熱風(fēng)循環(huán)烘箱百級(jí)氮?dú)饪鞠?/a>

202511-24

掌握潔凈烤箱科學(xué)排障方法是保障生產(chǎn)連續(xù)性與產(chǎn)品質(zhì)量的核心

潔凈烤箱作為半導(dǎo)體、生物醫(yī)藥及精密制造領(lǐng)域關(guān)鍵的熱處理設(shè)備，對(duì)溫度精度、潔凈度與運(yùn)行穩(wěn)定性要求高。一旦出現(xiàn)升溫慢、溫度不均、超溫報(bào)警、顆粒超標(biāo)或門封漏氣等問題，輕則影響工藝一致性，重則導(dǎo)致整批產(chǎn)品報(bào)廢。掌握潔凈烤箱的科學(xué)排障方法，是保障生產(chǎn)連續(xù)性與產(chǎn)品質(zhì)量的核心。問題一：升溫速度慢或無法達(dá)到設(shè)定溫度原因：加熱管老化、循環(huán)風(fēng)機(jī)故障、電壓不足或腔體密封不良。對(duì)策：檢查加熱管是否發(fā)紅均勻，若局部不熱需更...

hmds真空烘箱箱體結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)

hmds真空烘箱箱體結(jié)構(gòu):1、工作室采用鋼板或不銹鋼板。2、hmds真空烘箱微電腦智慧控溫儀，具有設(shè)定，測定溫度雙數(shù)字顯、定時(shí)、功率抑制和自整定功能，控溫可靠。3、hmds真空烘箱熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)由低噪聲風(fēng)機(jī)和風(fēng)道組成，工作室內(nèi)溫度均勻。hmd...

2016-06-27
橡膠熱延伸裝置，電纜熱延伸裝置簡介

一、橡膠熱延伸裝置，電纜熱延伸裝置簡介熱延伸裝置是利用耐高溫材質(zhì)精制而成；用來檢測橡膠、塑料或類似材料在高溫老化試驗(yàn)時(shí)的熱延伸性能。二、橡膠熱延伸裝置試驗(yàn)方法(一)取樣試樣制備及其截面積的測定從每一被試試樣上切取兩個(gè)絕緣樣段和護(hù)套樣段，按G...

2016-05-27
黑蒜設(shè)備，黑蒜制作設(shè)備

黑蒜又名黑大蒜，是用新鮮的生蒜，帶皮放在高溫高濕的發(fā)酵箱里發(fā)酵，讓其自然發(fā)酵制成的食品，它在保留生大蒜原有成份的基礎(chǔ)上，使生大蒜的抗氧化、抗酸化功效提高了數(shù)十倍，又把生大蒜本身的蛋白質(zhì)大量轉(zhuǎn)化成為人體每天所必需的18種氨基酸，進(jìn)而被人體迅速...

2013-10-25
塑料（橡膠）超低溫脆性試驗(yàn)儀的特點(diǎn)和用途

低溫脆性試驗(yàn)儀的特點(diǎn)和用途來源:上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司塑料（橡膠）低溫脆性試驗(yàn)儀的用途脆性溫度試驗(yàn)儀是測定試樣在規(guī)定條件下試樣受沖擊出現(xiàn)破壞時(shí)的zui高溫度，即為脆性溫度。無論在科學(xué)研究材料及生產(chǎn)過程的控制等方面均是*的。塑料（橡膠）低溫...

2013-09-10
HMDS真空烤箱的特點(diǎn)

HMDS真空烤箱的特點(diǎn)來源:上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司一、HMDS真空烘箱技術(shù)參數(shù)：電源電壓：AC220V±10%/50Hz±2%輸入功率：2400W控溫范圍：室溫+10℃-250℃溫度分辨率：0.1℃溫度波動(dòng)度：...

2013-09-10
HMDS Coater（HMDS 涂布機(jī)）使用范圍

HMDSCoater（HMDS涂布機(jī)）用途：HMDSCoater是通過對(duì)箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻...

2013-08-14

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