反轉(zhuǎn)真空烘箱圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝；在電子制造業(yè)中，可以用于半導(dǎo)體器件制造中的退火和腐蝕等工藝；在航空航天制造業(yè)中，可以用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)和航天器材料的熱處理等。

產(chǎn)品型號(hào)：JS-NH090
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-09-17
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反轉(zhuǎn)真空烘箱圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐用途

圖像反轉(zhuǎn)（image inversion）是一種使用正膠和暗場(chǎng)掩模版做出島區(qū)的工藝。

在曝光小尺寸圖形時(shí)，傾向于使用正膠。正膠適于使用暗場(chǎng)掩模版做孔洞。暗場(chǎng)掩模版大部分被鉻覆蓋，因?yàn)殂t不會(huì)像玻璃一樣易損，所以缺陷比拋光較少。然而，一些掩模版用來(lái)曝光島區(qū)。而不是孔洞，比如金屬層掩模版上是島區(qū)圖形。

在曝光結(jié)束后，光刻膠里的圖像與想要得到的圖像是相反的，也就是說(shuō)，如果拋光接著顯影的話，會(huì)得到孔洞而不是島區(qū)。

反轉(zhuǎn)真空烘箱圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐性能

尺寸(可定制)	300×300×300(mm) 450×450×450(mm)，可定制
材質(zhì)	內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼，外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板靜電噴塑
溫度范圍	RT+50-200℃
溫度分辨率	0.1℃
溫度波動(dòng)度	≤±1℃
操作模式	人機(jī)界面
升溫速率	≤5℃/min
氣體	2路供氣
真空度	0.1~100KPa

圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) Lmage inversion Oven

已經(jīng)在很多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。比如，在汽車制造業(yè)中，可以用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝；在電子制造業(yè)中，可以用于半導(dǎo)體器件制造中的退火和腐蝕等工藝；在航空航天制造業(yè)中，可以用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)和航天器材料的熱處理等。

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