潔凈烘箱，百級潔凈烤箱用途:
     潔凈烘箱，百級潔凈烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。

潔凈烘箱，百級潔凈烤箱特點(diǎn)：
1.在普通環(huán)境下使用，能夠確保烘箱內(nèi)部等級達(dá)到Class 100；
2.全周氬焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器，防機(jī)臺本身所產(chǎn)生微塵；
3.采平面水平由后向前送風(fēng)熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，省電節(jié)能溫度均勻性好，過濾效率99.99%，Class 100；
4.強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)方式。雙風(fēng)道循環(huán)結(jié)構(gòu)，溫度場分布均勻，智能P.I.D溫控系統(tǒng)，得到溫度控制精度。

潔凈烘箱，百級潔凈烤箱產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)：

1.主要技術(shù)指標(biāo)：
   無塵等級：Class 100;     

 溫度范圍：RT+10～200℃；
   溫度均勻度：±2℃;    

 溫度波動(dòng)度：±0.5℃（空載）        
   溫控精度：±0.1℃;        

 工作室尺寸：W1600×D1600×H1000（mm）         
   電源：380v , 50Hz，20KW    

 網(wǎng)板：2塊（高度可調(diào)節(jié))

 潔凈度100級的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風(fēng)水平層對流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。zui小限度控制風(fēng)速距離。
M計(jì)裝可編程控制1模式20步驟，zui多可做10個(gè)模式。溫度上升·下降斜率設(shè)定程序的重復(fù)次數(shù)在1-999次間設(shè)定。
簡單操作的標(biāo)準(zhǔn)計(jì)裝
標(biāo)準(zhǔn)配置定值運(yùn)行模式以及自動(dòng)啟動(dòng)·自動(dòng)停止等可設(shè)定動(dòng)作的程序運(yùn)行。標(biāo)準(zhǔn)配置溫度過升防止器。 

2、箱體結(jié)構(gòu)：
   烘箱由箱體部分、電器控制柜、電加熱及風(fēng)道系統(tǒng)組裝而成，結(jié)構(gòu)合理，外觀美觀大方；
   箱體材料：外箱采用優(yōu)質(zhì)拉絲不銹鋼，并經(jīng)堿性蘇打水清潔，可防止微塵；
   內(nèi)膽材料：采用優(yōu)質(zhì)SUS304鏡面不銹鋼板，并經(jīng)堿性蘇打水清潔，去油污避免烘烤時(shí)產(chǎn)生 PARTICLE；

3、完善的安全保護(hù)措施：
     漏電斷路器、控制線路保險(xiǎn)絲裝置、 超溫防止保護(hù)裝置、 電熱過電流保護(hù)裝置、馬達(dá)過電流保護(hù)、 機(jī)臺異常蜂鳴器逆向防止器、門面安全開關(guān)。

一、HMDS真空烘箱技術(shù)參數(shù)：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2200W

溫度范圍：RT+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動(dòng)度：±0.5℃

達(dá)到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：550*550*350（可定做）

有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。

二、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn)：

1、預(yù)處理性能更好，由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有著更好的處理效果。

2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。

4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多；

5、更加環(huán)保和安全，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、呼吸道等，由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對環(huán)境造成污染。    

6、低液報(bào)警裝置，當(dāng)HMDS液過低時(shí)發(fā)出報(bào)警及及時(shí)切斷工作起動(dòng)功能；HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。

7、可自動(dòng)吸取HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。

8、可自動(dòng)添加HMDS功能，智能型程式設(shè)定，將HMDS藥液定量添加至設(shè)備自帶儲(chǔ)液瓶中，無需人工添加，降低了工作人員和藥液接觸的幾率。

9、HMDS藥液泄漏報(bào)警功能，可安裝HMDS藥液泄漏測試系統(tǒng)，檢測到空氣中HMDS有害氣體時(shí)設(shè)備自動(dòng)報(bào)警并且停止工作。

三、HMDS真空烘箱的原理：      

    HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

四、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：

    在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

五、系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：

整個(gè)系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等5部分組成

加熱模塊

    由于工藝的整個(gè)過程都需要在150℃左右的環(huán)境下進(jìn)行，所以自始至終加熱

系統(tǒng)都在工作。

    本系統(tǒng)采用在腔內(nèi)分布兩塊獨(dú)立的熱板來實(shí)現(xiàn)加熱，每個(gè)熱板都采用人工智

能PID調(diào)節(jié)儀實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制，調(diào)節(jié)儀控制固態(tài)繼電器的輸出從而實(shí)現(xiàn)溫度的精確

穩(wěn)定控制，測溫采用通用的高精度熱敏電阻Pt100。

真空模塊

   由機(jī)械泵、真空組件、真空測量等組成，主要作用是置換氣體和抽走剩余的

HMDS蒸汽。

充氮模塊

   作用是在置換過程中，用氮?dú)鈦碇饾u稀釋空氣或藥液蒸汽，從而zui終替換空氣

或藥液蒸汽的氣氛。

   主要由氮?dú)庠?、控制閥和噴頭組成。

控制模塊

    控制模塊是本系統(tǒng)的核心模塊，它的作用是控制各個(gè)模塊的動(dòng)作和時(shí)序，完

成整個(gè)工藝過程。

    它主要由人機(jī)界面，CPU控制中心，控制接口和輸出部件，報(bào)警等5部分組

成。

  人機(jī)界面采用φ100mm松下觸摸屏來實(shí)現(xiàn)參數(shù)、狀態(tài)等界面的顯示和參數(shù)的設(shè)

定輸入。PLC采用松下的FP0系列小型化PLC。

軟件組成

整個(gè)控制軟件共分4個(gè)部分，即自動(dòng)運(yùn)行、手動(dòng)控制、參數(shù)設(shè)定、幫助。

當(dāng)按下自動(dòng)運(yùn)行鍵后，畫面轉(zhuǎn)換到運(yùn)行畫面，顯示當(dāng)前的工藝狀態(tài)，運(yùn)行時(shí)間等，

同時(shí)系統(tǒng)開始運(yùn)行，整個(gè)過程如圖2所示。

    首先打開真空泵、開始抽真空、待腔內(nèi)真空度達(dá)到某高真空度（該值可預(yù)設(shè)）

后，開始充入氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度（該值也可預(yù)設(shè)）后的再次重復(fù)抽真空、

充入氮?dú)獾倪^程，達(dá)到設(shè)定的充入氮?dú)獾拇螖?shù)后再次抽真空，然后充入藥液，達(dá)

到設(shè)定時(shí)間后，停止充入藥液，進(jìn)入保持階段。當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定的保持時(shí)間后，再次

開始抽真空、充入氮?dú)?，次?shù)為設(shè)定值，當(dāng)系統(tǒng)自動(dòng)工作完成后，畫面切換到結(jié)

束畫面，同時(shí)給出聲光報(bào)警等待取片，在自動(dòng)工作過程中若出現(xiàn)異常可點(diǎn)擊運(yùn)行

畫面中的停止鍵，隨時(shí)終止程序的運(yùn)行。

    參數(shù)設(shè)置窗口中設(shè)置運(yùn)行中所需的幾個(gè)參數(shù)，如重復(fù)充氣次數(shù)，加藥時(shí)間，

保持時(shí)間等。

    在手動(dòng)控制窗口中，可以隨意的打開和關(guān)閉每個(gè)開關(guān)量，主要用于調(diào)試和臨

時(shí)改變某個(gè)工藝。