HMDS真空烘箱，HMDS鍍膜烘箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-09-16
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產(chǎn)品詳情

HMDS真空烘箱，HMDS鍍膜烘箱的用途：
HMDS真空烘箱，HMDS鍍膜烘箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

的特點(diǎn)：

1、安全性高、更加環(huán)保，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激、呼吸道等，由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。

2、hmds熏蒸機(jī)效率高，液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)8盒（4寸）的晶片，甚至更多

3、預(yù)處理性能好，由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-160℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有著更好的處理效果。

4、均勻性好，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

5、hmds烘箱更加智能化，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。當(dāng)HMDS液位過(guò)低時(shí)發(fā)出報(bào)警提示。

的技術(shù)規(guī)格：

1.設(shè)備名稱(chēng)
2、設(shè)備型號(hào)	JS-HMDS90
3、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
3.1 工作室尺寸	450×450×450mm（可定做）
3.2 產(chǎn)品架	2層
3.3 溫度范圍	RT+10-250℃
3.4 溫度分辨率	0.1℃
3.5 溫度波動(dòng)度	＜±1℃
3.6 真空度	≤133pa
3.7 潔凈度	class 100，設(shè)備采用無(wú)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境
3.8電源及總功率	AC 220V±10% 50HZ 總功率約2.5KW
3.9 控制儀表	人機(jī)界面
3.10顯示分辨率	時(shí)間：0.1min
3.11真空泵	油泵或干泵

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